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- 上海解普科技受邀參加慕尼黑華南激光展
- 【解普自研】——全自動(dòng)金屬清潔度檢測(cè)儀上線
- SPM5 CCD based 光譜儀上線
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全自動(dòng)三維度清潔度檢測(cè)儀
- Hightlight:
- 搭載電動(dòng)平移臺(tái)行程
- 16bit測(cè)量精度準(zhǔn)確度高
- 高光譜成像測(cè)量速度快
- 清潔度全光譜測(cè)量?jī)?yōu)于視覺(jué)算法
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全自動(dòng)零件清潔度檢測(cè)儀
應(yīng)用場(chǎng)景:
工業(yè)生產(chǎn)中零件加工后的清潔度檢測(cè),是否含有金屬殘留
粘結(jié)前鋁壓鑄件表面的殘留脫模機(jī)的檢測(cè), 避免后期膠水或者涂層不能覆蓋鋁合金件
激光焊接前檢測(cè)金屬部件的清潔度,避免后期金屬切割導(dǎo)致輪廓異常
檢測(cè)醫(yī)用或者真空技術(shù)中的油膜污染, 避免后期絕緣或者有密封的時(shí)候因?yàn)橛臀蹖?dǎo)致密封失效
在粘接前檢測(cè)粘接墊片上的殘留劑和封裝材料,避免因?yàn)闅埩魧?dǎo)致膠水沒(méi)能完全附著
剝離隔離材料后,對(duì)電觸電進(jìn)行表面檢測(cè)
不同清潔方式后的功能化表面的清潔度檢測(cè),產(chǎn)品對(duì)一致性的要求
工作原理:利用高分辨光譜儀對(duì)被測(cè)物進(jìn)行高光譜成像掃描,可以最小掃描光斑2mm,如果加入顯微鏡可達(dá)到30um。對(duì)被測(cè)區(qū)域進(jìn)行全自動(dòng)采集,軟件同步形成高光譜成像。通過(guò)計(jì)算每個(gè)點(diǎn)的反射率光譜曲線,根據(jù)反射率不同可以區(qū)分不同的污染物。
可測(cè)種類:比如金屬污染(可以區(qū)分鐵,銅,銀,鋁,不銹鋼等多種金屬成分),可以區(qū)分不同清洗劑如 酸,堿,中性清洗劑,可以區(qū)分固體污染物,比如尼龍,粉末,樹(shù)脂等。
成像速度:無(wú)需樣品制備,直接測(cè)量,檢測(cè)速度快,200mm * 170mm掃描范圍只需要8分鐘。高光譜成像佳,1000個(gè)點(diǎn)5分鐘,20000個(gè)點(diǎn)10分鐘。
高級(jí)版本:可支持污染物一鍵檢索和區(qū)別,直接匹配出對(duì)應(yīng)的污染源,并且標(biāo)注在高光譜圖譜上(此項(xiàng)需要提供最終污染物,采集污染物的反射率圖譜加入到數(shù)據(jù)庫(kù)里方可實(shí)現(xiàn))。
我們的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì):
本設(shè)備工作原理不同于普通的視覺(jué)識(shí)別(視覺(jué)識(shí)別法對(duì)液體不敏感),傳統(tǒng)視覺(jué)識(shí)別對(duì)鋁合金上的鋅金屬污染等無(wú)法區(qū)別,但是本產(chǎn)品可以根據(jù)不同金屬的光學(xué)反射率不同,區(qū)別不同金屬的污染物。

下圖是對(duì)某光學(xué)鏡頭上,人為的加上一個(gè)“上”字的污染物,然后進(jìn)行掃描,得到的高光譜圖像,被測(cè)物 40mm * 40mm, 污染物 6mm * 6mm

下圖是對(duì)鋁合金工件上的酸,堿,中性清洗劑等進(jìn)行的掃描結(jié)果,藍(lán)色(低反射率區(qū)域),代表污染物,根據(jù)藍(lán)色的深淺不同,代表不同反射率的污染物,后期可對(duì)不同污染物進(jìn)行區(qū)分。


下圖是鏡片上的臟污檢測(cè),臟污平均50-100um直徑, 在高光譜顯示下,臟污可以清楚的分辨



和傳統(tǒng)的高光譜相機(jī)和視覺(jué)識(shí)別的對(duì)比
| 高精度光譜算法 | 高光譜相機(jī)算法 | 工業(yè)攝像機(jī)視覺(jué)算法 | |
| 原理 | 350-1000nm光譜成像法 | 400-1000nm光譜成像法 | 380-780nm 相機(jī)成像(沒(méi)有光譜信息) |
| 探測(cè)器 | CMOS | CMOS | CMOS |
| 探測(cè)器像元 | 14um*14um | 25um*25um | 2um*2um |
| 光譜測(cè)量級(jí)數(shù) | 65535級(jí) | 4096級(jí) | 1024級(jí) |
| 反射率測(cè)量誤差(越小越好) | <0.5% | <7% | <10% |
| 弱光探測(cè)性能 | 非常強(qiáng) | 一般 | 差 |
| 掃描方式 | 點(diǎn)掃描 | 線掃描 | 面掃描 |
| 光源 | 點(diǎn)光源(整個(gè)被測(cè)物因?yàn)閬?lái)源同一個(gè)點(diǎn)光源,被測(cè)物光譜一致性好) | 面光源(被測(cè)物每個(gè)測(cè)量點(diǎn)的光照不完全一致,導(dǎo)致被測(cè)的點(diǎn)反射光譜參比會(huì)有差異) | 面光源(不均一) |
| 速度(200mm*120mm被測(cè)物) | 8分鐘 | 3分鐘 | 2秒鐘 |
| 可測(cè)量的污染物 | 金屬,非金屬,液體 | 金屬,非金屬,液體 | 金屬,非金屬 (液體不能測(cè)) |
| 被污染物識(shí)別算法 | 可識(shí)別污染物具體物質(zhì)成分 | 無(wú)法識(shí)別污染物成分 | 無(wú)法識(shí)別污染物成分 |
功能豐富的軟件支持

我們的軟件支持
1. 透反射模式,,玻璃或者透明物的透反射率
2. 拉曼模式,可聯(lián)合激光器,測(cè)量拉曼光譜
3. 濃度模式,可聯(lián)合氙燈,測(cè)量紫外波長(zhǎng)下的,吸光度,從而根據(jù)朗伯比爾定律,測(cè)得液體濃度
4. 全自動(dòng)電機(jī)平臺(tái)控制,支持一軸電機(jī),二軸電機(jī),三軸電機(jī),顯微鏡電機(jī),自動(dòng)對(duì)焦,支持?jǐn)z像頭,支持拼譜顯示,支持運(yùn)動(dòng)控制,如圓弧采集,S型加減速等
5. X軸時(shí)序測(cè)量模式,可聯(lián)合汞氬燈測(cè)試X軸穩(wěn)定性,
6. Y軸時(shí)序測(cè)量模式,可聯(lián)合激光器測(cè)試激光中心波長(zhǎng)穩(wěn)定性
7. 顯微模式,可聯(lián)合電機(jī)平臺(tái),測(cè)得高光譜圖像, 支持透反射高光譜,和拉曼高光譜
8. LIBS模式,可聯(lián)合1064 Nd-YAG激光器,測(cè)得金屬成分
9. 膜厚測(cè)量,可測(cè)量5um – 100um薄膜厚度
10. 分光測(cè)色,可測(cè)量XYZ, Lab, Yxy, HSV, LCH, RGB等參數(shù)
11. 在線測(cè)量,可遠(yuǎn)程控制光譜儀測(cè)量數(shù)據(jù)
12. 均勻性測(cè)量,可測(cè)試樣品的分布均勻性,包括藥品顆粒的均勻性,或者LED燈光的均勻性
支持二次開(kāi)發(fā),有Windows 二次開(kāi)發(fā)和Linux二次開(kāi)發(fā)包

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